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成膜処理中の各値(温度、ガス流量、プロセス圧、RF出力値等) を1~3秒に一回取得し、ホストへ報告する為のCCUをユーザーの 御希望に合わせて開発。
実績
・Novellus社製 Concept-1: 4システム(計10台)
・Novellus社製 Concept-2 Speed: 1システム
・Varian社製 3290: 3システム(計3台)
・Varian社製 m2i: 1システム(計3台)
成膜中の各値(温度、ガス流量、プロセス圧、RF出力値等) を0.5~3秒に一回取得し、 データロガー用のパソコンに保存。専用のソフトにて各値を グラフ及び表にて確認可能。データ取得はSECS通信もしくはアナログ電圧から取得可能
実績
・Novellus社製 CVD Concept-1:30台
・ニューフレア製 EPI装置 30GX、28GX、28FM:6台
・AMAT社 CENTURA EPI:2台
・SEN社製 インプラ装置 GSD:2台
ドライポンプの情報をモニターに表示させることが可能。異常時にはエラー内容を表示。また、起動/停止をモニターから操作可能。その他、外部インターロックを取り込むことも可能。
Novellus社製Concept-One装置のシステムコントローラーを更新し、装置の延命及び操作性向上を目的とする
仕様
・Windowsベースのユーザーインターフェース
・制御はベッコフ製のI/O、通信ユニットを使用
・グラフィカルユーザーインターフェースを使用し、操作は画面を選択することにより操作可能
・既存のプロセス条件をそのまま使用可能とし、追加機能として処理ステップを任意に設定することが可能
・メンテナンス時には、自動でメンテナンスに入る準備までを行い、メンテナンス後は自動で立ち上げを実施